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https://rinacional.tecnm.mx/jspui/handle/TecNM/13302Full metadata record
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | RAMÍREZ AMADOR, RAQUEL | - |
| dc.contributor.author | PICHÓN MARTINEZ, ALBERTO | - |
| dc.creator | PICHÓN MARTINEZ, ALBERTO | - |
| dc.date.accessioned | 2026-06-29T18:11:32Z | - |
| dc.date.available | 2026-06-29T18:11:32Z | - |
| dc.date.issued | 2026-05 | - |
| dc.identifier.uri | https://rinacional.tecnm.mx/jspui/handle/TecNM/13302 | - |
| dc.description | El presente proyecto tiene como propósito la caracterización térmica de un horno de fabricación casera aplicado a procesos de los semiconductores, mediante la implementación de un sistema de medición y monitoreo controlado por un microcontrolador Arduino. El sistema está conformado por termopares tipo K y el módulo MAX6675, encargado de convertir las señales analógicas de temperatura en los datos digitales, permitiendo la lectura precisa y estable. Además, en el software de Arduino IDE, posibilita la visualización y el control de la temperatura en tiempo real, asegurando la estabilidad del sistema térmico durante el proceso. A partir de la caracterización obtenida, se realizará el cálculo teórico de un controlador PID, con el fin de analizar la respuesta térmica del sistema y determinar los parámetros necesarios para un control eficiente, sin llegar a su implementación práctica. | es_MX |
| dc.language.iso | spa | es_MX |
| dc.publisher | Tecnológico Nacional de México | es_MX |
| dc.rights.uri | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0 | es_MX |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/cti/7 | es_MX |
| dc.subject.other | El programa implementado en Arduino permite monitorear continuamente la temperatura interna del horno, registrar el tiempo de respuesta y evaluar la capacidad del sistema para alcanzar y mantener la temperatura deseada | es_MX |
| dc.title | CARACTERIZACIÓN DE UN HORNO DE TRATAMIENTO TÉRMICO APLICADO A SEMICONDUCTORES | es_MX |
| dc.type | info:eu-repo/semantics/bachelorThesis | es_MX |
| dc.contributor.director | RAMÍREZ AMADOR, RAQUEL | - |
| dc.folio | 37079 | es_MX |
| dc.rights.access | info:eu-repo/semantics/openAccess | es_MX |
| dc.publisher.tecnm | Instituto Tecnológico de Apizaco | es_MX |
| Appears in Collections: | TESIS ING. MECATRÓNICA | |
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| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| CARACTERIZACIÓN DE UN HORNO DE TRATAMIENTO TÉRMICO APLICADO A SEMICONDUCTORES.pdf | 3.93 MB | Adobe PDF | View/Open |
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