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https://rinacional.tecnm.mx/jspui/handle/TecNM/13302| Titre: | CARACTERIZACIÓN DE UN HORNO DE TRATAMIENTO TÉRMICO APLICADO A SEMICONDUCTORES |
| Auteur(s): | PICHÓN MARTINEZ, ALBERTO |
| metadata.dc.subject.other: | El programa implementado en Arduino permite monitorear continuamente la temperatura interna del horno, registrar el tiempo de respuesta y evaluar la capacidad del sistema para alcanzar y mantener la temperatura deseada |
| Date de publication: | 2026-05 |
| Editeur: | Tecnológico Nacional de México |
| metadata.dc.publisher.tecnm: | Instituto Tecnológico de Apizaco |
| Description: | El presente proyecto tiene como propósito la caracterización térmica de un horno de fabricación casera aplicado a procesos de los semiconductores, mediante la implementación de un sistema de medición y monitoreo controlado por un microcontrolador Arduino. El sistema está conformado por termopares tipo K y el módulo MAX6675, encargado de convertir las señales analógicas de temperatura en los datos digitales, permitiendo la lectura precisa y estable. Además, en el software de Arduino IDE, posibilita la visualización y el control de la temperatura en tiempo real, asegurando la estabilidad del sistema térmico durante el proceso. A partir de la caracterización obtenida, se realizará el cálculo teórico de un controlador PID, con el fin de analizar la respuesta térmica del sistema y determinar los parámetros necesarios para un control eficiente, sin llegar a su implementación práctica. |
| metadata.dc.type: | info:eu-repo/semantics/bachelorThesis |
| Collection(s) : | TESIS ING. MECATRÓNICA |
Fichier(s) constituant ce document :
| Fichier | Description | Taille | Format | |
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| CARACTERIZACIÓN DE UN HORNO DE TRATAMIENTO TÉRMICO APLICADO A SEMICONDUCTORES.pdf | 3.93 MB | Adobe PDF | Voir/Ouvrir |
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